有機ケイ素中間体・シリル化剤
ヘキサメチルジシラザン (HMDS)
(ビス(トリメチルシリル)アミン / HMDS無水物)
| CAS番号 | 999-97-3 |
| IUPAC名 | 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン |
| 同義語 | HMDS、ヘキサメチルジシラザン、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン、ビス(トリメチルシリル)アミン、ヘキサメチルシラザン、N-(トリメチルシリル)トリメチルシリルアミン |
| 分子式 | C₆H₁₉NSi₂ [(CH₃)₃Si-NH-Si(CH₃)₃] |
| 分子量 | 161.39 g/mol |
| HSコード | 2931900090 |
| 利用可能なグレード | 産業用 医薬品 電子式（5N / 6N） |
ヘキサメチルジシラザン (HMDS) とは何ですか?概要
ヘキサメチルジシラザン (HMDS)、とも書きます。ヘキサメチルジシラザンまたは1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(CAS 999-97-3) は、特徴的なアンモニア様の臭気を持つ、無色の揮発性の高い有機ケイ素化合物です。HMDS の完全な形式:ヘキサメチルジシラザン - は、窒素原子で架橋された 2 つのトリメチルシリル基の構造を反映した名前です。(CH₃)₃Si-NH-Si(CH₃)₃。このユニークなジシラザン構造により、プロトン性官能基 (ヒドロキシル、アミノ、カルボキシル) の効率的なシリル化と優れた表面疎水化が可能になり、HMDS は半導体リソグラフィー、医薬品合成、先端材料、および表面処理業界全体でかけがえのない化学試薬となっています。
トリメチルクロロシラン (TMCS) などの従来のシリル化剤とは異なり、HMDS は、より穏やかな反応条件、より高いシリル化収率、および厳密な純度やプロセスの清浄度が要求されるハイエンド製造にとって重要な利点を提供します。{{0}{0}{1}{2}{2}} HMDS は水分と急速に反応してアンモニアを放出するため、すべてのグレードの取り扱いおよび保管は窒素保護下で行う必要があります。
当社は、SMIC および揚子江メモリ - の認定施設を含む中国の大手メーカー - と提携して、グラムレベルの試薬ドラムから産業用 IBC トートまでの柔軟なパッケージングを備えた工業用、製薬用、および電子グレードの HMDS を競争力のある価格で供給し、ヨーロッパ、北米、東南アジア、中東のバイヤーにサービスを提供しています。
HMDS の物理的および化学的特性
HMDS 仕様 - 全グレード
| 仕様 | 工業用グレード 表面処理・フィラー |
医薬品グレード 医薬品合成 (GMP) |
電子グレード 半導体リソグラフィー |
|---|---|---|---|
| 純度 (GC) | 98.0%以上 | 99.5%以上 | 99.999% 以上 (5N) アドバンストノードでは最大6N |
| 水分含有量 | 0.1%以下 | 0.02%以下 | 0.005％以下（50ppm以下） |
| 色 (Pt-Co) | 30以下 | 10以下 | 5 以下 |
| 沸点 | 125～127度 | 126.0～126.5度 | 126.2±0.2度 |
| 引火点 | 17度（クローズドカップ） | 17度（クローズドカップ） | 17度（クローズドカップ） |
| 金属不純物 | 指定されていない | 単一イオン 10 ppm 以下 | 単一イオン 1 ppb 以下 (14nm ノードの ppt レベル) |
| 貯蔵寿命 | 6 か月 (N₂-封印) | 12 か月 (N₂-密封、暗所) | 18 か月 (超-クリーンな N₂- 密封) |
| 包装 | 180kgスチールドラム 1000kg IBCトート |
20L HDPEドラム 200L N₂-密閉スチールドラム |
10L 石英-ライニングドラム 200L ウルトラクリーンスチールドラム- |
GB/T 30301-2013、REACH および TSCA に準拠。 COA、SDS/MSDS、およびサードパーティのテストレポートは、ご要望に応じて入手可能です。
HMDSの用途と応用分野
1. 半導体リソグラフィー - フォトレジスト接着促進剤
HMDS は業界標準です-接着促進剤、プライマー、疎水性コーティング剤シリコンウェーハリソグラフィーでは、HMDS 総消費量の 40%。 HMDS は、フォトレジスト コーティングの前に気相プライマー (VPP) として塗布され、ウエハー上の表面ヒドロキシル基 (Si-OH) と反応して、緻密な疎水性トリメチルシリル層を形成します。これにより、フォトレジストの密着性が劇的に向上し、現像中のレジスト剥離が防止され、エッジビードの形成が排除されます -。これにより、微細な回路パターニングを正確に行うことができます。28nmノード以下.
先進的な半導体ノードが 14nm、7nm、そしてそれ以降に進歩するにつれて、純度の要件は次のレベルにまで高まりました。5N (99.999%) および 6N グレード、金属不純物は ppb ～ ppt レベルで管理されています。当社の電子グレード HMDS 製品は、高度な微量金属除去技術を採用しており、SMIC、長江メモリ、長新メモリ、UMC などの主要ファブの認定基準を満たしています。
2. 製薬産業 - 医薬品合成用シリル化剤
医薬品合成では、HMDS はシリル化剤医薬品中間体中の反応性プロトン性官能基 (-OH、-NH₂、-COOH) を保護し、望ましくない副反応を防止し、反応選択性と目的生成物の収率を大幅に向上させます。これは、抗腫瘍、抗ウイルス、抗アレルギーの有効医薬品成分 (API) の合成における重要な試薬です。-
当社の医薬品グレードの HMDS（純度 99.5% 以上、GMP- 準拠）は大手製薬 CDMO 企業によって検証されており、医薬品の研究開発や大規模製造に不可欠な安定したバッチ品質を提供します。-
3. 材質と表面処理 - 疎水化剤
HMDS は非常に効果的です疎水化剤ヒュームドシリカや二酸化チタンなどの無機充填剤用。 HMDS による表面改質により、シリコーンゴムとエポキシ樹脂複合材料におけるフィラーとマトリックスの相溶性が大幅に向上し、機械的特性 (靭性、引張強度) と耐候性が向上します。 OLED 封止材料や太陽光発電モジュールのガラス処理に広く使用されており、HMDS- で改質された表面は防湿性能が著しく向上し、過酷な屋外環境での耐用年数が延長されます。
のためにガラス、セラミック、金属の表面処理, HMDS は、吸湿と腐食を防ぐ高密度の共有結合した疎水性フィルムを形成します。
4. 分析化学とファインケミカル
分析化学では、HMDS は誘導体化試薬プロトン性化合物 (アルコール、フェノール、カルボン酸) の GC 分析用。シリル化誘導体は、より高い揮発性と改善されたクロマトグラフィー分離を示し、複雑なマトリックス中の微量物質の正確な定量分析を可能にします。
ファインケミカル分野では、HMDS は、日常の化学薬品や繊維印刷に使用される高級シリコーン界面活性剤とシリコーン樹脂の中間体として機能します。{0}電子グレードの HMDS 市場は、半導体のローカリゼーションの加速と医薬品 CDMO の生産能力の拡大により、2026 年まで 18.3% の CAGR で成長すると予測されています。{2}
5. ベースとしての HMDS - LiHMDS、NaHMDS、KHMDS
HMDS はシリル化剤としての役割を超えて、広く使用されている金属アミド塩基の重要な前駆体です。LiHMDS(リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド)、NaHMDS(ヘキサメチルジシラジドナトリウム)、およびKHMDS（ヘキサメチルジシラジドカリウム）。これらの強力なヒンダード塩基は、立体嵩と化学選択性が重要な選択的エノラート形成、指向性脱プロトン化、および不斉反応のための製薬合成およびファインケミカル合成において不可欠な試薬です。
LiHMDS(CAS 4039-32-1) が最も広く使用されており、高い塩基性 (THF 中で pKa ～ 30) とエーテル系溶媒への優れた溶解性が高く評価されています。NaHMDSそしてKHMDS反応性が向上し、LiHMDS の反応性が不十分な場合に使用されます。 3 つすべてが主要な出発原料として HMDS から製造されているため、その製造には高純度の HMDS 供給が不可欠です。-
当社は、LiHMDS、NaHMDS、KHMDS 製造の原料として適した高純度の HMDS を提供しています。{0}バルク仕様についてはお問い合わせください。
HMDSはどのように作られるのですか?製造工程
HMDS は 2 つの主なルートを通じて商業的に製造されます。伝統的なクロロシランのアンモノリシスプロセストリメチルクロロシラン (TMCS) を過剰のアンモニアと反応させる: 2 (CH3)3SiCl + NH3 → (CH3)3Si-NH-Si(CH3)3 + 2 HCl。副生成物である HCl は中和され、粗生成物は多段階精留によって精製されます。-。代替案グリーントランスアミノ化技術ヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）とアンモニアを触媒条件下で使用し、塩化物副生成物と環境への影響を削減します。-
弊社のパートナー メーカーは、多段階精留とモレキュラーシーブ吸着精製システムを備えた連続アンモノ分解生産ラインを運用し、すべてのグレードにわたってバッチ間で一貫した純度を提供します。{0}
HMDS の保管、安定性、および安全な取り扱い
ストレージ要件
涼しく（0～25 度）、乾燥した、換気の良い場所に保管してください。-防爆倉庫-熱源、裸火、直射日光から遠ざけてください。すべての梱包は、湿気と空気を隔離するために窒素で密封する必要があります。-HMDS は周囲の湿度と接触すると急速に加水分解します。工業用グレード: 窒素-で密閉されたスチールドラム。製薬および電子グレード: 超-クリーンな窒素-で密閉された HDPE または石英-で裏打ちされたドラム (電子グレードの場合は ISO 14644 クリーン パッケージ)。少なくとも 20{13}} メートル離すか、30- 分間の耐火性の障壁を設けて、酸化剤や強酸から隔離してください。-。最大積載量：180kgスチールドラム缶2段。倉庫には防爆照明と粉末消火器または CO₂ 消火器を備え付けてください。
安定性に関する注記
HMDS は、乾燥して窒素下で保管すると化学的に安定です。湿気にさらされると加水分解が発生します。強酸や酸化剤にさらされると、激しい反応を引き起こす可能性があります。揮発の促進を防ぐため、30 度を超える温度に長時間さらさないでください。
安全性と取り扱い (SDS / MSDS 概要)
PPE が必要です:-静電気防止服、ニトリルゴム手袋（高リスク作業用の 3 層構造）、化学安全ゴーグル、フェイス シールド、有機蒸気マスク（密閉空間用の SCBA）。-手術中は飲食、喫煙は禁止です。
流出反応:直ちに着火源を遮断し、風上に避難してください。流出エリアを隔離します。乾いた砂またはソーダ灰で吸収してください - 水は使用しないでください。吸収された物質は密閉容器に移して廃棄してください。下水道や土壌に排出しないでください。
応急処置：皮膚 - は汚染された衣類を脱ぎ、石鹸と水で 15 分以上洗います。目 - が 15 分以上水で洗い流された場合は、医師の診察を受けてください。吸入した場合 - 直ちに新鮮な空気の場所に移動してください。 - を摂取しても嘔吐は引き起こされません。救急医療を受けてください。完全な SDS/MSDS PDF は当社の営業チームから入手できます。
HMDS 価格 - 2025 市場参照
のHMDSの価格（ヘキサメチルジシラザンの価格）は、純度グレード、包装仕様、注文量によって大きく異なります。以下は、中国原産製品の 2025 年の参考価格です。-（工場出荷ベース）:
98.0%以上
99.5%以上
99.999% 以上 (5N)
HMDS に関するよくある質問
Q: HMDS とは何の略ですか? HMDS フルフォームとは何ですか?
HMDSの略ですヘキサメチルジシラザン- 完全な化学名は 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザンで、ヘキサ メチル ジシラザンとも表記されます。化学では、HMDS は特に (CH3)3Si-NH-Si(CH3)3 構造を持つ有機ケイ素化合物 (CAS 999-97-3) を指します。注: 「HMDS」は、関連のない分野 (医療、軍事、農業など) の略語としても使用されますが、化学および半導体製造の文脈では、HMDS は常にヘキサメチルジシラザンを意味します。
Q: HMDS は半導体製造で何に使用されますか?
HMDS は、フォトレジスト コーティングの前にシリコン ウェーハ表面に塗布される気相接着促進剤 (プライマー) として使用されます。{0}表面のSi-OH基と反応して疎水性トリメチルシリル単層を形成し、フォトレジストの密着性を劇的に向上させ、湿式現像時の剥離を防止し、微細な回路パターンの寸法精度を確保します。これは、従来の 200 mm から最先端の 300 mm EUV リソグラフィ ラインに至るまで、世界中のほぼすべてのシリコン ウェーハ製造工場で標準プロセス材料として使用されています。{4}
Q: 工業用グレードの HMDS と電子グレードの HMDS の違いは何ですか?
工業グレード (98.0% 以上) は、フィラー (ヒュームドシリカ、TiO2) の表面処理、コーティング、および微量金属含有量が重要ではない一般的なシリル化用途に適しています。電子グレード (99.999% 以上、5N) では、個々の金属不純物が 1 ppb - 未満であることが必要です。- ppb 未満の金属汚染がデバイスの故障の原因となる半導体リソグラフィーでは必須です。エレクトロニック グレードは、超清浄 ISO 14644 条件下で石英-内張りまたは認定された超清浄鋼ドラムで包装され、各バッチには完全な ICP-MS 微量金属レポートが添付されます。
Q: HMDS はなぜ水と反応するのですか?また、どのように保管する必要がありますか?
HMDS には、加水分解を受けやすい Si-N-Si 結合が含まれています: (CH₃)₃Si-NH-Si(CH₃)₃ + H₂O → 2 (CH₃)₃SiOH + NH₃。放出されたアンモニアにより密閉容器内の圧力が上昇し、結果として生じるヘキサメチルジシロキサン (HMDSO) が製品を汚染します。したがって、すべてのグレードは、湿気源から離れた密閉容器内の乾燥窒素下、0 ～ 25 度で保管する必要があります。開いた容器は使用後すぐに再度密閉し、窒素で満たす必要があります。-
Q: HMDS とは何ですか? HMDSO との違いは何ですか?
HMDS (ヘキサメチルジシラザン、CAS 999-97-3) は Si-N-Si 結合を含み、活性なシリル化試薬です。 HMDSO (ヘキサメチルジシロキサン、CAS 107-46-0) は Si-O-Si 結合を含み、HMDS の加水分解副生成物であり、反応性がはるかに低くなります。 HMDS は化学的表面改質剤およびシリル化試薬として使用されます。 HMDSO は主に非反応性シリコーンオイルおよび HMDS 合成の原料として使用されます。リソグラフィーまたは製薬プロセス用の材料を指定する場合、この 2 つを混同しないでください。
Q: HMDS サプライヤーにはどのような認証を要求する必要がありますか?
産業用アプリケーション: ISO 9001 (品質管理) および ISO 14001 (環境)。医薬品グレードの場合: GMP 準拠、USP/EP- 参照の COA、およびサードパーティの QC レポートを提供できます。-電子グレードの場合: 下流の半導体製造工場の認定 (SMIC、UMC 認定など)、SEMI F47 または同等の材料規格への準拠、バッチごとの完全な ICP-MS 微量金属レポート、および ISO 14644 認定のクリーンなパッケージの確認。すべてのグレードは、国際輸出のために最新の REACH および TSCA 登録を行う必要があります。
Q: HMDS が水と反応するとどうなりますか?
HMDS は加水分解によって水と急速に反応します: (CH₃)₃Si-NH-Si(CH₃)₃ + H₂O → 2 (CH₃)₃SiOH → (CH₃)₃Si-O-Si(CH₃)₃ + NH₃。生成物はヘキサメチルジシロキサン (HMDSO) とアンモニアです。この反応は発熱し、アンモニア ガスが発生します。これにより密閉容器内に圧力が発生し、製品の純度が低下します。これが、工業用 - を含むすべての HMDS グレード - を常に乾燥窒素下で保管および取り扱う必要がある理由です。周囲の湿度であっても、長期間保管するとゆっくりとした加水分解が始まる可能性があります。
Q: HMDS の主な代替手段は何ですか?また、HMDS が推奨されるのはどのような場合ですか?
一般的なシリル化剤の代替品には、トリメチルクロロシラン (TMCS)、N-メチル-N-トリメチルシリルアセトアミド (MSA)、N,O- ビス(トリメチルシリル) アセトアミド (BSA) などがあります。 HMDS は、穏やかな反応条件が必要な場合 (HCl 副生成物がない場合)、高いシリル化収率が重要な場合、またはプロセスで酸性または腐食性の副生成物 - による汚染を最小限に抑える必要がある場合に適しており、半導体ウェーハ処理および医薬品合成の標準的な選択肢となっています。コストが主な要因である大量の工業用疎水化処理の場合、TMCS は低コストの代替手段として使用される可能性があります。-
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関連製品：トリメチルクロロシラン（TMCS）・ヘキサメチルジシロキサン（HMDSO）・その他の有機ケイ素中間体
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